微电子工业应用了一种外延工艺，该工艺包括在纳米层中沉积元素，形成一种特殊的晶体结构。该技术中应用最广泛的元素之一是砷。在运行过程中，砷污染扩散到整个工艺设备、生产区域（洁净室、空调）以及行政区域。

CURIUM对受砷污染的洁净室（2 000平方米）、一个储存车间（300平方米）和设备（280吨）进行了去污染。

采样计划和污染阈值已经确定。已经制定了基于不同类型表面的去污染方法。CURIUM公司负责设计在无尘室和不可呼吸的环境中（存在砷和磷）以及含磷设备上的去污染作业。

CURIUM团队对废物进行了包装或移除运输，并跟踪确保了废物在国外的运输以及最终处置。